Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg

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Halle-Wittenberg
Institut für Physik
Fachgruppe µMD

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Equipment

Herstellung

Reinraum der Klasse 100 im TGZ mit kompletter Siliziumtechnologie
(Lithographie, Beschichtung, Oxidation, ICP-Ätzen, ALD)

Templatprozesse

  • Elektrochemisches Ätzen von Silizium und Aluminiumoxidmembranen
  • Kolloidkristalle (Polymer, SiO2)
  • Polymer und Metallnanostrukturen und Polymerkomposite durch Replikation von porösen Templaten

Simulation

FEM, FD-TD, Bandstruktur, SMM
(16GB + 32GB-RAM Workstations)

Physikalische Charakterisierung

REM, Optisch, ESR/ ENDOR;

REM - JEOL 7401F
FIB - FEI versa3D
XRM - ZEISS xradia ultra 810

µ-PCD - Freiberg Instruments MDPspot

optische Charakterisierung (statisch)

UV-VIS, 1.55μm, IR-Spektralbereich;
FTIR - Bruker IFS 66/S mit Hyperion
Monochromator - Horiba iHR550
opt. Mikroskop - Olympus BX51 (bis 1000x)
Raman Spektroskop - Horiba Labram HR Evolution

sonstiges

Rohrofen - Carbolite mit Quarzrohr (bis 1200 °C)
Rohrofen - Carbolite mit AlOx-Rohr (bis 1500 °C)
Sputterer - Cressington 108auto
Poliermaschine - Logitech CL50
Drahtsäge - Well

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