Martin-Luther-Universität Halle-Wittenberg

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Halle-Wittenberg
Institut für Physik
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Equipment

Herstellung:

Reinraum der Klasse 100 im TGZ mit kompletter Siliziumtechnologie
(Lithographie, Beschichtung, Oxidation, ICP-Ätzen, ALD)

Templatprozesse:

  • Elektrochemisches Ätzen von Silizium und Aluminiumoxidmembranen
  • Kolloidkristalle (Polymer, SiO2)
  • Polymer und Metallnanostrukturen und Polymerkomposite durch Replikation von porösen Templaten


Simulation:

FEM, FD-TD, Bandstruktur, SMM
(16GB + 32GB-RAM Workstations)

Physikalische Charakterisierung:

REM, Optisch, ESR/ ENDOR
REM, JEOL JSM IT100
FIB, FEI versa3D
XRM, ZEISS xradia ultra 810
(TEM, Analytik bei Fraunhofer IMWS)

optische Charakterisierung (statisch):

UV-VIS, 1.55μm, IR-Spektralbereich
FTIR, Bruker IFS 66/S mit Hyperion
Monochromator, Horiba iHR550
opt. Mikroskop Olympus, BX51 1000x
Raman Spektroskop, Horiba Labram HR Evolution

sonstiges:

Sputterer Cressington 108auto
Poliermaschine Logitech CL50
Drahtsäge

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