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Equipment

Herstellung:
Reinraum der Klasse 100 im TGZ mit kompletter Siliziumtechnologie (Lithographie, Beschichtung, Oxidation, ICP-Ätzen, ALD)

Templatprozesse:

• Elektrochemisches Ätzen von Silizium und Aluminiumoxidmembranen
• Kolloidkristalle (Polymer, SiO₂)
• Polymer und Metallnanostrukturen und Polymerkomposite durch Replikation von porösen Templaten

Simulation:
FEM, FD-TD, Bandstruktur, SMM
(16GB + 32GB-RAM Workstations)

Physikalische Charakterisierung:
REM, Optisch, ESR/ ENDOR
(FIB, TEM, Analytik bei Fraunhofer IWM)

optische Charakterisierung (statisch):
UV-VIS, 1.55μm, IR-Spektralbereich

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