Siliziumphotonik
Nanostrukturen für die Integrierte Optik
Das Arbeitsfeld der Nanostrukturen für die Integrierte Optik hat zum Ziel optische Komponenten für die Siliziumphotonik zu entwickeln.
Dazu zählen z.B. optische Modulatoren, Polarisations-sensitive Bauteile oder optisch nichtlineare Strukturen.
Das Design der optischen Nanostrukturen erfolgt mit Hilfe numerischer Methoden (FEM, FDTD, PWE). Zur Herstellung verwenden wir Standard-SOI Substrate, die mit Hilfe konventioneller CMOS-Technologie strukturiert werden. Anschließend werden sie funktionalisiert. Dazu werden drei verschiedene Ansätze verfolgt: Die lokale Infiltration einzelner Poren von photonischen Kristallen, die Induktion optischer Nichtlinearitäten durch Verspannung des Siliziums und die Herstellung von Hybridstrukturen aus SOI und Lichtemittern auf III-V-Halbleiter-Basis.
Kompetenzen:Simulation, Herstellung und Charakterisierung von passiven und aktiven optischen Strukturen bei 1.55µm auf SOI-Basis.
Projekte:
- BMBF-Projekt HiPhocs: SOI Photonische Kristalle - slow light (2002-2005)
- DFG-Projekt: Silizium Photonische Kristalle - neg. Brechung (2001-2007)
- Humbold-Stiftung: LiNbO3 Photonische Kristallwellenleiter (2004-2006)
- DFG/NSF Projekt: Modulatoren mit optisch nichtlinearen Photonischen Kristallen auf SOI Basis (2006-2009)
- BMBF-Projekt SiLi Nano, Nachwuchsgruppe Silicon-to-Light: Entwicklung von Lichtquellen für die Siliziumphotonik (2009-2014) www.sili-nano.de
Gruppenleiter:
Prof. Dr. Jörg Schilling
Geschäftsführender Direktor am ZIK sili-nano